作者：薛迎坤; 韩亚军; 于洪禄; 王俊杰; 张宸; ...光刻工艺均一性膜厚沟道预热时间热盘温度工艺参数
摘要：随着TFT-LCD技术向高分辨率、低成本和高良品率的趋势不断发展,TFT-LCD对光刻工艺沟道膜厚均一性的管控要求越来越高。为了对沟道膜厚均一性进行改善,文章通过实验分别验证了前烘热盘的热盘温度、处理时间、局部温度补正、预热位置/预热时间和辅助支撑销高度五个工艺参数对沟道膜厚均一性的影响。最终明确了前烘热盘的五个工艺参数对膜厚均一性影响及其相互关系,为更好的调控膜厚均一性探索出了可行的技术路线。
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