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LaSrAlO4中Cu^2+的自旋哈密顿参量的理论分析

作者:魏望和; 邬劭轶; 高秀英; 颜微子晶体场理论电子顺磁共振自旋哈密顿重叠模型

摘要:根据晶体场理论,利用3d^9离子在四角对称(伸长八面体)中自旋哈密顿参量g因子的四阶微扰公式以及超精细结构常数A因子的三阶微拨公式,对掺Cu^2+的LaSrAlO4晶体的自旋哈密顿参量作出了理论分析。其中的四角晶场参量Ds、D1由重叠模型和杂质中心的局部结构计算,A因子公式中的芯区极化常数k≈0.286。所得到的计算值与实验符合较好,并从理论上确定了A∥为负值。

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电子科技大学学报

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