作者：罗才旺; 陈峰武; 巩小亮; 魏唯; 程文进有限元反应室流场
摘要：以MOCVD为研究对象,采用有限元方法研究了喷淋头进气压强、流量、载片盘转速及反应室出口压力对反应室内部流场的影响。结果表明,气体流量及载片盘转速对反应室内部流场具有极大的影响。研究结果不仅为MOCVD工艺操作条件提供了有效的理论支撑,而且也为MOCVD喷淋头的设计提供了重要的参考依据。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《电子工业专用设备》（CN：62-1077/TN）是一本有较高学术价值的大型双月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《电子工业专用设备》其宗旨是：坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针，报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果，学术动态等，为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务，它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物，在国内外影响日益扩大，读者遍布全国。
部级期刊
人气 371615 评论 74
省级期刊
人气 366710 评论 69
人气 308140 评论 62
人气 269790 评论 66
