作者:张金环; 胡孝伟; 刘志伟化学机械平坦化设备清洗单元控制软件软件设计
摘要:以应用材料公司设备为例介绍了CMP后清洗的工作原理;并针对兆声清洗和机械刷洗的软件需求做了深入分析;运用UML面向对象设计方法建立了可视化模型,对清洗单元的软件架构和设计方案进行了研究。
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《电子工业专用设备》(CN:62-1077/TN)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《电子工业专用设备》其宗旨是:坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针,报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果,学术动态等,为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务,它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物,在国内外影响日益扩大,读者遍布全国。
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