作者:王玲玉单晶硅清洗检验工艺
摘要:归纳总结了单晶硅片表面玷污杂质的来源和分类、清洗检验的工艺和清洗检验的设备,并对单晶硅清洗检验的发展趋势进行了分析。
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《电子工业专用设备》(CN:62-1077/TN)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《电子工业专用设备》其宗旨是:坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针,报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果,学术动态等,为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务,它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物,在国内外影响日益扩大,读者遍布全国。
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