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“超越摩尔定律”推动中国微技术和纳米技术增长

作者:Paul; Lindner摩尔定律光刻技术纳米技术器件功能封装结构微技术先进封装系统级封装图像传感器键合技术

摘要:"超越摩尔定律"时代将继续推动半导体行业的创新和发展。因利用光刻技术缩小半导体尺寸的成本日益高昂且难以实施,业界将重点关注新材料、新器件和新封装结构,从而强化互补金属氧化物半导体(CMOS)技术,增加器件功能,

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电子工业专用设备

《电子工业专用设备》(CN:62-1077/TN)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《电子工业专用设备》其宗旨是:坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针,报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果,学术动态等,为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务,它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物,在国内外影响日益扩大,读者遍布全国。

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