作者：殷子文; 姚立新; 张伟峰; 曹秀芳; 段成龙湿化学制程设备产能计算led芯片制程
摘要：讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水（DIW）计算方法，以100mm晶圆，单批次流片量50片为例，阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置；依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状，明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生产情况灵活处理生产需求，已成为LED芯片制程生产线中应用最多的设备之一。
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《电子工业专用设备》（CN：62-1077/TN）是一本有较高学术价值的大型双月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《电子工业专用设备》其宗旨是：坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针，报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果，学术动态等，为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务，它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物，在国内外影响日益扩大，读者遍布全国。
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