光刻系统mapper电子束节点原型制作无掩模器件
摘要：MapperLithography日前表示，公司已经向台积电（TSMC）发货其首套300mm电子束（e．beam）无掩模光刻工具，用于22nm工艺研发和器件原型制作。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《电子工业专用设备》（CN：62-1077/TN）是一本有较高学术价值的大型双月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《电子工业专用设备》其宗旨是：坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针，报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果，学术动态等，为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务，它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物，在国内外影响日益扩大，读者遍布全国。
部级期刊
人气 370862 评论 74
省级期刊
人气 366663 评论 69
人气 307995 评论 62
人气 269525 评论 66
