作者：徐春旭; 杨进录封闭式匀胶显影设备空气过滤系统气流导向系统嵌入式片盒站化学品供应站光刻工艺
摘要：介绍了KINGSEMI封闭式晶片处理系统.它是满足深亚微米光刻工艺要求的Cluster结构.有占地小,采用空气过滤(MFC)及气流导向(FFU)等控制系统,对局部环境进行温湿度控制等优点;智能型化学品自动供应站精确地控制光刻胶、显影液等化学试剂的用量.片盒站机械手和工艺单元机器人联合传送晶片,准确、安全、快捷;备有容纳4个片架盒的片盒站,可同时处理两种不同尺寸的晶片.嵌入式控制软件,Windows NT操作系统,构成良好的人机界面,操作方便.
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