作者：杜文东; 马建修; 张杰; 舒冬永; 靖宇四氟化硅恒沸物金属杂质萃取吸附
摘要：针对高纯电子级四氟化硅中卤代硅烷恒沸物及金属杂质难以去除的两大难题,采用溶剂萃取精馏法,通过评价5种萃取剂的萃取能力,筛选出一种非极性萃取剂。通过萃取剂的弱氢键作用,使卤代硅烷恒沸物分离至1×10-6以下。同时,利用静电除尘器和新型离子脱除吸附剂,可以使金属杂质含量脱除至50×10-9以下,同时又能保证四氟化硅不发生分解。基于上述方法,高纯电子级四氟化硅的产业化满足了安全环保、高效生产、质量稳定的要求。
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