设计平台技术认证tsmceuv科技定制工艺数字和
摘要：新思科技(Synopsys,Inc.)宣布,新思科技数字和定制设计平台通过了TSMC最先进的5 nm EUV工艺技术认证。该认证是多年广泛合作的结果,旨在提供更优化的设计解决方案,加快下一代设计的发展进程。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《单片机与嵌入式系统应用》（CN：11-4530/V）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
杂志详情
