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VHF—PECVD制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究

作者:张晓丹; 赵颖; 高艳涛; 朱锋; 魏长春; 孙...甚高频等离子体增强化学气相沉积微晶硅衬底温度

摘要:采用微区拉曼散射、傅立叶变换红外吸收和光热偏转谱对VHF-PECVD制备的不同衬底温度硅薄膜进行了微结构分析.结果表明:随衬底温度的升高,薄膜逐渐由非晶向微晶过渡,晶化率(Xc)逐渐增大,样品中的氢含量逐渐降低.在200~250℃条件下制备的微晶硅薄膜具有低的缺陷密度.通过优化工艺条件制备出了效率达7.1%的单结微晶硅太阳电池,电池厚度仅为1.2μm,且没有ZnO背反射电极.

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