作者：储清梅 刘翔 张鹏翔 戴永年单晶硅腐蚀表面织构
摘要：用NaOH／NH4F／Na2CO3溶液体系对单晶硅（100）进行了表面织构。结果发现腐蚀所得表面沟壑纵横，沟壑间是类似金字塔的小凸起。在优化条件下，平均反射率低且不随腐蚀时间的延长而增大，可重复性好，是比较理想的碱腐蚀液。
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