作者：梁琳 吴文杰 刘程 潘铭sicrsd脉冲功率开关工艺icp刻蚀离子注入台面终端造型
摘要：本文首次概述了采用宽禁带半导体材料4H-SiC制备脉冲功率开关反向开关晶体管（RSD）所涉及到的关键工艺。包括选择性刻蚀、选择性掺杂、欧姆电极制备以及台面终端造型等在内的多步主要工艺均与Si基RSD完全不同,采用氟基气体感应耦合等离子体（ICP）刻蚀得到了合适的刻蚀速率、表面粗糙度及形貌,采用多次氮离子注入及高温退火完成选择性掺杂,采用Ni/Ti/Al多层金属配合适当退火温度完成欧姆电极制备,采用机械切割斜角完成台面终端造型,最终得到了合理的器件正反向阻断特性。
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