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缓冲层对Fe3O4薄膜的结构与电磁性能影响

作者:李林; 张艳丽; 成钢fe3o4薄膜缓冲层巨磁电阻效应电磁性能

摘要:利用直流反应磁控溅射法制备了厚度约100 nm成分单一的Fe3O4薄膜。对薄膜样品进行XRD测试,研究了不同缓冲层对薄膜结构的影响。结果表明:Fe3O4薄膜沉积在缓冲层上时,薄膜的各衍射峰与Fe3O4的尖晶石结构的衍射峰相似,以(311)峰为主峰;对薄膜表面的AFM测试结果表明引入缓冲层使得薄膜晶粒分布均匀,表面平整度较好,且可以有效地降低薄膜表面粗糙度,在La2/3Ca1/3Mn O3上沉积时均方根粗糙度最小(RMS=1.47 nm);通过对Fe3O4薄膜磁电阻效应的测试,发现引入缓冲层的Fe3O4薄膜均呈现负磁电阻效应,电阻变化率对外加磁场的灵敏度减小;由于引入缓冲层后薄膜的晶体结构发生改变,增加了磁畴壁的移动阻力,薄膜的矫顽力和剩磁提高。

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电工材料

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