作者：张愿成 胡彭年 王训春 赵欣侃多晶硅绒面腐蚀深度表面特征反射率
摘要：在HNO3-HF制绒体系中加入添加剂,对硅片进行制绒,并对制绒后的硅片进行了表面形貌分析和光学性能表征。腐蚀深度结果显示,不同种类的添加剂对腐蚀速率作用不同;硅片表面反射率测试结果显示,所用添加剂对改善制绒后表面光学均匀性有积极作用。通过对添加剂组分配方的优化,在不改变制绒工艺条件的基础上制得腐蚀深度3.5~4.5μm、表面反射率20%~21%的多晶硅片,有望使现有产线制绒效果得到改善。
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