EIS、LEIS和DEIS在金属腐蚀与防护研究中的应用进展

作者：李祝文; 李岩; 秦永坤; 朱锡昶; 葛燕电化学交流阻抗谱局部电化学阻抗谱动电位电化学阻抗谱涂层耐蚀性缺陷局部腐蚀空蚀

摘要：介绍了电化学阻抗谱（EIS）、局部电化学阻抗谱（LEIS）和动电位电化学阻抗谱（DEIS）的优缺点,综述了这3种阻抗技术在金属表面防护涂层耐蚀性和微观缺陷研究中的应用现状,以及在金属点蚀、空蚀等局部腐蚀研究中的进展,展望了LEIS和DEIS两种阻抗技术组合在金属表面局部腐蚀动态监测方面的应用前景。

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