作者：杜义琛; 周建伟; 王辰伟; 何彦刚; 张文倩...钌化学机械抛光硅溶胶双氧水盐酸胍极化曲线去除速率
摘要：根据Zeta电势测量、极化曲线测量和原子力显微镜观察的结果，探讨了盐酸胍（GH）在Ru化学机械抛光（CMP）过程中的作用。结果表明：在pH=9的5％Si02＋0．15％H202抛光液中，GH的添加可以大幅度提高钌的去除速率。当GH浓度为80mmol／L时，钌的去除速率最佳。在相同浓度下，GH对Ru去除速率的提高效果优于KCl，皆因GH除了可以提升si02颗粒对Ru表面的机械作用之外，还能加速Ru腐蚀。
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