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化学镀铜法包覆铝及氧化铜团聚粉体工艺研究

作者:闫军; 崔海萍; 杜心康; 王建江粉体化学镀铜包覆团聚镀液稳定性次磷酸钠工艺研究镀覆能谱分析工艺配方

摘要:研究了以次磷酸钠为还原剂,在Al及CuO团聚粉体上直接化学镀铜的工艺,利用正交试验设计优化了工艺配方.对优化的配方进行验证实验,用扫描电镜和能谱分析了镀覆效果.结果表明该工艺配方简便易行,具有良好的镀覆能力,与传统工艺相比具有镀液稳定性好,工作温度低,同时不破坏粉体的优点.

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电镀与精饰

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