作者：程立军; 康建海直流电沉积晶相结构择优取向点阵常数
摘要：采用直流电沉积方法,在氨基磺酸盐镀液中,通过调整氨基磺酸钴的质量浓度制备了两种不同晶体结构的镍-钴合金镀层,分别记为镍-钴合金镀层A和镍-钴合金镀层B。对两种不同的镍-钴合金镀层的结构进行了表征,并根据相关计算公式得到了晶粒尺寸和点阵常数。结果表明:镍-钴合金镀层A是单一的面心立方结构,而镍-钴合金镀层B是密排六方结构,两者的XRD图谱存在很大差异;与镍-钴合金镀层A相比,镍-钴合金镀层B的晶面择优取向程度较高,平均晶粒尺寸更小,各晶面所对应的点阵常数基本上都增大。
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