HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

环境气体对激光烧蚀制备纳米Si晶粒平均尺寸的影响

作者:王英龙 张恒生 褚立志 丁学成 傅广生脉冲激光烧蚀纳米si晶粒平均尺寸环境气体

摘要:采用脉冲激光烧蚀装置,在不同环境气体下,沉积制备了含有纳米Si晶粒的薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)观察样品的表面形貌,并对晶粒尺寸进行统计分析.发现不同环境气体下,纳米Si晶粒平均尺寸均随衬底与靶的距离增加有着先增大后减小的规律;通过分析比较,同等条件下Ne气环境下制备的纳米si晶粒平均尺寸最小。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

材料工程

《材料工程》(CN:11-1800/TB)是一本有较高学术价值的大型工业类刊物,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度,颇受业界和广大读者的关注和好评。

杂志详情