作者：成艳; 蔡伟; 李洪涛; 郑玉峰; 赵连城形状记忆合金离子镀钽镀层
摘要：采用多弧离子镀的方法在TiNi形状记忆合金表面镀覆了厚度为3μm的钽镀层，并对其进行了不同温度的真空退火处理。通过X射线衍射(XRD)研究发现，未经退火的镀层是由不稳定的β-Ta组成，分别经过700，800，900C，1h退火后转变为α—Ta。透射电子显微镜(TEM)的观察发现，采用多弧离子镀的方法可以在TiNi合金表面得到纳米尺寸的β-Ta镀层。在700C退火时可以得到由40nm左右的微晶和150nm左右的较大晶粒混合而成的α-Ta。当退火温度为900C时，镀层主要由尺寸较大而且均匀的α-Ta组成。
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