作者：古丽妮尕尔·阿卜来提; 麦合木提·麦麦提; ...铁酸铋镍掺杂薄膜磁性能
摘要：采用溶胶-凝胶法在Si/SiO2衬底上制备BiFeO3(BiFe1-xNixO3,x=0,0.05,0.10,0.15)薄膜。分别研究了Ni对BiFe1-xNixO3晶体结构、表面形貌、光学性能以及磁性的影响。X射线衍射光谱显示,Ni掺杂改变了BiFe1-xNixO3体系的晶体结构,由菱形相转变为正方相。扫描电子显微镜(SEM)显示,Ni掺杂可以提高BiFe1-xNixO3薄膜的结晶度。拉曼光谱表明纯BFO具有较强的振动峰,但随着Ni掺杂量的增加,拉曼峰发生了红移,这表明Ni掺杂缩短了BiFeO3薄膜中Bi-O原子间的距离。与BiFeO3薄膜相比,BiFe1-xNixO3(x=0.05,0.1,0.15)薄膜的饱和磁化强度(Ms)明显增强,说明Ni含量的增加导致了更多的结构畸变,从而抑制了BiFe1-xNixO3薄膜的自旋结构。研究结果可为信息存储提供潜在的应用。
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