作者：徐玮 于军 王晓晶 袁俊明 雷青松磁控溅射陶瓷靶材电阻率透过率
摘要：利用射频磁控溅射法,采用氧化锌铝（98%ZnO+2%Al2O3）为靶材,在普通载玻片上制备了ZAO（ZnO:Al）薄膜,研究了溅射功率及溅射气压对薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响。采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采用分光光度计和电阻率测试仪对薄膜的光电学性能进行了测试。结果表明,当溅射功率为120W、衬底温度为300℃、工作气压为0.5Pa时制得的薄膜具有良好的光电学性能,可见光平均透过率为88.21%,电阻率为8.28×10-4Ω·cm。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
