作者：陈浩; 万强; 刘念; 蔡耀; 刘琰; 吴忠烨; ...tisin涂层多弧离子镀氮气气压显微结构抗腐蚀
摘要：为了研究氮气气压对TiSiN涂层显微结构与腐蚀行为的影响，采用自制多弧离子镀设备，在抛光的单晶（mo）硅片与不锈钢基底上沉积TiSiN涂层，沉积气压0．5～2．5Pa，利用X射线衍射仪（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）与电化学阻抗谱（EIS）表征涂层显微结构与电化学性能。结果表明：沉积的TiSiN涂层为纳米晶-非晶复合结构，其中纳米TiN晶体被非晶的SbN。包围。当氮气气压从0．5Pa升高到2．5Pa之后，TiSiN涂层晶粒尺寸由19．5nm减小到8．0nm。电化学阻抗随着氮气气压升高先增大后逐渐下降，沉积气压为1．0Pa时，涂层抗腐蚀性能最强。
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