作者：陈强 孙运金 周美丽 韩而立 杨丽珍 张跃...等离子体技术siox薄膜高阻隔包装
摘要：采用无任何污染的等离子体技术，进行SiOx薄膜的沉积：电子束蒸发氧化硅、离子源辅助电子束蒸发氧化硅、磁控溅射沉积氧化硅、离子源辅助磁控溅射沉积氧化硅、等离子体化学气相沉积SiOx等，并对所沉积的薄膜进行结构性能的比较研究。
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《包装工程》（CN：50-1094/TB）是一本有较高学术价值的大型半月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《包装工程》专论部分着重报道包装学术理论、工程应用技术研究进展和成果等内容，信息版块主要报道国内外包装科技发展动态和技术信息等内容。
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