作者：朱建强; 姜英娜; 宋晨路; 韩高荣玻璃基板附着力硅薄膜cvd工艺sih4变化趋势基板温度沉积速率划痕法硅质
摘要：采用APCVD工艺,以SiH4为原料在不同温度的玻璃基板上硅质薄膜的制备,采用划痕法测量薄膜与基板之间的附着力,研究了薄膜附着力随基板温度变化趋势.说明了吸附、扩散的增强以及沉积速率的增大等都会导致薄膜附着力的增加.
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《玻璃》（CN：13-1106/TQ）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《玻璃》设有专题论术、研究与研制、玻璃深加工、政策与法规、技术交流、生产经验等栏目，及时报道国内外玻璃行业新动态、新技术，主要介绍建筑玻璃及其相关的玻璃深加工和装饰玻璃专业领域的最新研究成果与生产情况。
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