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硼源浓度对钛基掺硼金刚石薄膜生长的影响

作者:王文君 汪建华 王均涛 辛永磊 熊礼威 刘...硼浓度掺硼金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积

摘要:利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在钛基底上制备了掺硼金刚石(BDD)薄膜。研究了硼源浓度对BDD薄膜生长的影响。分别采用扫描电子显微镜,拉曼光谱,x射线衍射技术对薄膜的表面形貌、残余应力、择优取向及TiC含量进行了分析。结果表明,硼源浓度升高对金刚石薄膜(111)织构生长有促进作用;随着掺硼浓度的增加,TiC含量和晶粒尺寸皆减小,同时薄膜的张应力增大,缓解薄膜自身在制备过程中形成的压应力,从而更大程度上提高薄膜附着力。

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表面技术

《表面技术》(CN:50-1083/TG)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《表面技术》办刊宗旨:为从事工业材料和机械产品表面处理技术的科技工作者提供学术和技术交流、沟通信息,为我国经济建设服务。

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