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通过激光烧蚀沉积薄膜

沉积薄膜激光烧蚀激光束聚焦医学应用传播方向速度分量金刚石膜芯片制造

摘要:一种在衬底上沉积薄膜的方法,包括用激光束烧蚀靶,以产生沿传播方向离开靶的表面延伸的蒸发物的烟柱。激光束聚焦在靶表面之前并在烟柱中的有限距离(d)处,由此为烟柱中赋予增加的能量。也可以高速旋转靶,以便赋予蒸发物预定的速度分量,该速度分量使以较低速移动的蒸发物偏离传播方向,并防止被沉积到衬底上。在金刚石膜的形成中该方法很有用,并且已经应用在微芯片制造、可视显示单元、太阳能转移、光学、光电技术、保护表面、医学应用以及切割和钻孔应用等领域。

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表面技术

《表面技术》(CN:50-1083/TG)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《表面技术》办刊宗旨:为从事工业材料和机械产品表面处理技术的科技工作者提供学术和技术交流、沟通信息,为我国经济建设服务。

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