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微电子应用中化学镀沉积的缺陷控制与工艺控制

工艺控制缺陷控制电子应用化学镀沉积专利权查尔斯公告

摘要:申请(专利)号:CN200680042540.X:申请日:2006.09.19:公开(公告)号:Cn101506953:公开(公告)日:2009.08.12;申请(专利权)人:恩索恩公司;地址:美国康耐提格西海文市:发明(设计)人:陈青云、查尔斯·巴尔韦德、文森特·派纳卡西奥、尼古拉·彼德罗夫、丹尼尔·斯屈奇,克里斯蒂安·威特,理查德·赫图欠斯。

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表面工程与再制造

《表面工程与再制造》(CN:42-1870/TG)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《表面工程与再制造》主要刊发有关表面处理行业的各种信息资料,如本行业中的新技术、新产品、新成果等的介绍和推广;对行业中的各种展会、培训及活动进行报道;及时全面地报道和介绍国内外表面工程领域的政策走向、技术进展、行业动态等各类信息。

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