作者：陆峰衬底透明导电薄膜zao薄膜电学性能直流反应磁控溅射性能对比测试磁控反应溅射试样制备
摘要：东北大学机械工程与自动化学院在不同衬底上用直流磁控反应溅射法制备ZAO薄膜，对试样作了EDS、XRD测试，并对不同衬底上的薄膜光学和电学性能作了对比分析。结果表明：所有试样均具有典型的ZnO品体结构；用直流反应磁控溅射法在不同衬底上都能获得电阻率低于10^-4Ω·cm。
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