“掩膜”应为”掩模”

作者：金顺爱半导体集成电路科技名词计算机学科几何图形编辑工作电子学物理学术语

摘要：“掩模”是指在制作半导体集成电路时，光刻工艺需要的一整套相互间能精确套准、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。在全国科技名词委已经审定的术语中，电子学、物理学以及计算机学科中相应概念的规范术语均为“掩模”；在权威辞书中，其名词也均为“掩模”。但笔者在编辑工作中发现，有相当多的作者将其写作“掩膜”。

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