原子力显微镜在ZAO薄膜表征中的应用

作者：杨英歌; 卢一民; 王新如; 李小波zao薄膜射频磁控溅射原子力显微镜黏附力

摘要：利用磁控溅射法在溅射功率分别为30，50，80，100W条件下制备ZAO薄膜，并通过原子力显微镜（AFM）、X射线衍射（XRD）谱对制得的薄膜样品进行表面形貌、结构特性和黏附性能进行研究。XRD结果表明，随着溅射功率的增加，ZAO薄膜呈现了明显的（002）择优取向，结晶质量获得提高。通过原子力显微镜对样品的二维、三维以及剖面线图进行分析。随着溅射功率增大，薄膜样品表面较均匀致密，晶粒生长较充分，结晶质量较高，粗糙度和黏附力均增大。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社