作者：张改梅; 曹玥; 宋晓利; 何存富; 洪富原子力声学显微镜纳米薄膜幅值成像超声激励
摘要：为研究原子力声学显微镜（atomic force acoustic microscopy,AFAM）技术检测纳米多孔氧化硅薄膜的超声幅值成像的影响因素,通过基于AFAM技术的谐振频率检测及超声幅值成像系统,试验得到了纳米氧化硅薄膜和纳米多孔氧化硅薄膜的前2阶接触谐振频率及其超声幅值成像,分析试验过程中的参数如激励频率、扫描频率对稳定性的影响及超声激励对纳米摩擦力的影响.试验结果显示,超声频率会影响超声幅值成像的对比度,超声激励降低了扫描过程中的摩擦力.
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