作者：赵佶finfetsoc系统数字电路设计硅薄膜商用化平面工艺器件模型模拟设计布板二阶效应
摘要：<正>当前业界都在谈论FinFET——可以说,这是MOSFET自1960年商用化以来晶体管最大的变革。几乎每个人———除了仍然热心于全耗尽绝缘体硅薄膜(FDSOI)的人,都认为20nm节点以后,FinFET将成为SoC的未来。但是对
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