美国开发一种新的砷化镓晶圆蚀刻法

作者：郑冬冬砷化镓蚀刻法制造速度伊利诺大学软光刻干式illinois应用技术移动速率化合物半导体

摘要：<正>美国伊利诺大学(University of Illinois)实验室开发出一种以金属为蚀刻催化剂的砷化镓晶圆蚀刻法,这种蚀刻方法,其制造速度较传统的湿式蚀刻制程来得快、而成本又较干式蚀刻来得低,一旦该制程获得推广,可望有效推进用以生产太阳能砷化镓产品的商业应用技术。

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