作者：孙再吉微机电系统高分辨率光阻最小分辨率晶格结构
摘要：<正>据《Solid State Technology》2004年第9/10期报道,日本NTT基础材料科学实验室已成功开发了可供微机电系统(MEMS)结构使用的高速电子束蚀刻技术。其分辨率可远远高于传统的蚀刻技术。研究人员展示了在60μm PMMA光阻上蚀刻出的三维空间系统结构,
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