固体沉浸技术问世 无掩膜光刻可成现实

作者：郑冬冬掩膜immersion中国科技信息纳米探针原子力显微镜纳米管天线结构新颖奇特

摘要：<正> 《中国科技信息》2004年19期报道:光刻领域目前大热点是沉浸(immersion)技术。但美国亚利桑那大学的研究人员发明了所谓的"固体沉浸"(Solid immersion)技术,在光掩膜技术的Bacus研讨会上发表的论文中,预计该大学将描绘通过采用"固体沉浸透镜纳米探针"使无掩膜光刻成为现实的方法。

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