NEC和Tokuyama联合推出用于8nm线宽的电子束光刻胶

作者：章从福电子束光刻胶nectokuyama线宽粗糙度氯甲基研究机构

摘要：<正> NEC公司和Tokuyama公司合作开发的电子束光刻胶能够实现8nm线宽的光刻,边缘粗糙度小于1nm。该电子束光刻胶的成分为氯甲基杯4芳烃,这种烃是由4个苯环结成的直径为0.7nm的环。该产品的原子量很小,因而可达到8nm的分辨率,同时这种材料不易结晶,可保证

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