作者：徐玮 于军 王晓晶 袁俊明 雷青松磁控溅射陶瓷靶材电阻率透过率zao薄膜
摘要：利用射频磁控溅射法采用氧化锌铝（98%ZnO＋2%Al2O3）为靶材在普通载玻片上制备了ZAO（ZnO：Al）薄膜,研究了衬底温度对薄膜晶体结构,电学和光学性能的影响。利用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,利用分光光度计和电阻测试仪分别测试了薄膜的光电学性能。结果表明,衬底温度对薄膜结构及光电学性能影响最大。溅射功率120W、衬底温度300℃、工作气压0.6Pa制得的薄膜具有良好的光电学性能（可见光平均透过率为79.49%（考虑衬底的影响,电阻率为4.99×10^-2Ω·cm）。
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