飞利浦rfcmos技术90纳米工艺微电子半导体cmos工艺ieee节点
摘要：飞利浦半导体日前在IEEE举办的国际电子器件会议(IEDM)上，了超过17篇的半导体研究论文。这些论文介绍了飞利浦与比利时微电子研究中心(IMEC)以及Crolles2 Alliance的研发成果，内容涵盖65及45纳米节点CMOS工艺、90纳米节点RF CMOS性能等。
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《半导体技术》（CN：13-1109/TN）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《半导体技术》以严谨风格，权威著述，在业内深孚众望，享誉中外，对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯，为客户开拓更大市场”。荣获中国科技论文统计用刊，美国ProQuest数据库收录期刊。
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