作者：孙铖; 沈鸿烈; 高凯; 林宇星; 陶海军薄膜材料snse2薄膜硒化温度光学带隙
摘要：采用射频磁控溅射加硒化的两步法在超白玻璃衬底上生长SnSe2薄膜,采用XRD、光学透过谱、Raman光谱、XPS和SEM等方法对薄膜进行性能表征。通过设置不同的硒化温度,研究不同硒化温度对所得薄膜相结构、物相与组分、表面形貌等性能的影响。结果表明:350℃,40min硒化所得薄膜为片状晶粒,光学带隙为1.46eV,相结构和均匀性等性能在该硒化条件下均为最佳。
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