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基于PVT法自发形核生长AlN晶体的研究

作者:曹凯; 汪佳; 王智昊; 任忠鸣; 邓康; 吴亮aln物理气相传输法热场设计实验分析

摘要:根据物理气相传输法(PVT)AlN晶体生长特点及工艺要求,自主设计了AlN晶体生长炉及其配套热场。FEMAG软件热场模拟结果表明,自主设计的晶体生长炉及其配套热场可以达到AlN晶体生长所需坩埚内部温度梯度要求。基于设计的PVT生长炉,开展了在2 250℃生长温度、40h长晶时间条件下的自发形核生长实验。实验研究结果表明,在该工艺条件下,通过自发形核可生长得到典型长度为3~5mm、直径为2mm的高质量AlN单晶;AlN晶体的c-plane(0001)生长速率最快,易形成尖锥形晶体结构,不利于晶体的扩径;Raman表征图谱中AlN晶体的E2(high)半峰宽仅为5.65cm-1,表明AlN晶体质量非常高;SEM、EDS分析得出晶体内部质量较为均匀,c-plane和m-plane腐蚀形貌特征明显。

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半导体光电

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