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净水厂中全氟化合物分布特征及UV/SO3^2-的去除机理

作者:周浩; 孙敏净水厂pfcsuv水合电子

摘要:通过考察长江原水和南方某净水厂各单元处理工艺中5种全氟化合物(PFCs)的分布特征,分析了各单元对PFCs的去除效果,并探讨了UV/SO3^2-光还原技术降解饮用水中PFCs的机理。长江原水经过净水厂处理后,总PFCs去除率为35.33%,其中混凝沉淀工艺对PFCs的去除率最高,臭氧和氯消毒工艺会造成PFCs的增加;采用波长为365nm、功率为500W的紫外灯激发UV/SO3^2-产生的水合电子能够降解水中的PFCs。当PFCs初始浓度为1mg/L、UV/SO3^2-浓度为0.4g/L、pH值为8.5时,5种PFCs的降解均符合一级反应动力学;PFDA降解的中间产物表明UV/UV/SO3^2-技术是通过逐步脱去CF,实现降解的。

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中国给水排水

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