作者：史宁昌; 李广华; 雷勇; 吴太夏高光谱成像无损检测书画文物保护
摘要：为探讨对故宫书画文物进行整体分析、保护的方法,本研究利用研发的高光谱成像系统,对故宫博物院的部 分馆藏书画文物进行分析.分析发现,高光谱成像技术在文字信息增强、隐藏信息提取、底稿线提取、颜料分析等 方面有独特的优势.将高光谱成像技术用于书画文物的保护,不仅能够深度了解文物病害程度,为绘画工艺研究 提供帮助,更重要的是能够为书画文物的保护修复材料选择和修复效果评估提供参考,使保护修复更加全面和科 学化,同时能缩短病害调查和科学分析的时间,加快保护修复工作的进度.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
