作者：李广宇; 李秋鹤; 于弘洋; 张雷; 李浩民等离子体源渗氮奥氏体不锈钢钝化膜电化学腐蚀
摘要：对AISI 316奥氏体不锈钢进行了450℃×6 h的等离子体源渗氮,获得了厚度约为17μm、氮浓度高达20%（原子分数）的面心立方γ_N相渗层。采用阳极极化和电化学阻抗谱（EIS）研究了γ_N相在3.5%NaCl溶液中的电化学腐蚀行为。结果表明,γ_N相的阳极极化曲线呈现出活化溶解-自钝化-过钝化溶解过程,γ_N相未发生点蚀。与奥氏体不锈钢原材料相比,γ_N相的自腐蚀电位高226 mV,钝化电流密度低了近一个数量级。钝化膜电化学阻抗谱的容抗弧直径增大,相位角变宽,采用等效电路R_s-（R_（ct）//CPE）拟合的电荷转移电阻R_（ct）增大,双电层电容C_（dl）降低,耐蚀性能显著提高。随着渗层浸入3.5%NaCl溶液中的时间的延长,γ_N相钝化膜的耐蚀性改善,发生点蚀的倾向性减小。
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