HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

基于动力学蒙特卡洛方法模拟化学气相沉积生长Cu薄膜的条件

作者:李朋 杨振雄 赵虎薄膜光学动力学蒙特卡洛方法生长模拟表面粗糙度表面熵

摘要:应用一套新的动力学蒙特卡洛方法模拟化学气相沉积生长Cu薄膜,铜原子随机生长在平方(100)同质晶格上。生长包括几个基本的过程:沉积,表面扩散,原子吸附,原子对成核,岛状生长等。薄膜的生长质量被诸如表面熵的一些参数所描述,表面熵是类比信息熵在通信领域的应用所提出的一个新的概念。发现低温和较低的覆盖层数往往伴随着粗糙的膜的表面,直到达到临界温度后不再变化,这些结论和实验的结果相一致。改变了传统的对薄膜粗糙度的定义,同时发现仅仅用粗糙度这个参数描述薄膜表面粗糙情况是不恰当的。最后对比结果解释了提出表面熵这个新概念的合理性。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

量子电子学报

《量子电子学报》(CN:34-1163/TN)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《量子电子学报》致力于报导量子电子学领域中的最新的重要实验和理论研究成果,优秀的教学研究和专题综述,适合于高等院校主修上述专业的师生以及相关研究所和公司的科研工作者、工程师阅读。

杂志详情