作者：赵海阔 雒向东光电子学多层膜调制周期表面形貌
摘要：采用磁控溅射方法在Si（111）基底上沉积不同调制周期的Cu／TaN多层膜，用X射线衍射仪（XRD）与原子力显微镜（AFM）表征薄膜微结构与表面形貌，研究了不同调制周期L薄膜的微结构与表面形貌。结果表明：不同L的TaN调制层均为非晶结构，多晶Cu调制层的晶粒取向组成随着L改变而变化；Cu调制层的表面粗糙度Rrms大于TaN调制层的Rrms；与Cu单层膜相比，最外层为Cu调制层的Cu／TaN多层膜的Rrms较小；与TaN单层膜相比，最外层为TaN调制层的Cu／TaN多层膜的Rrms较大；随着L增加，多层膜与对应的单层膜之间的Rrms差值逐渐减小。
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