关键词: 半导体光刻技术  psm技术  离子束曝光技术  极紫外光刻技术  

2009年第06期 《中国高新科技》

关键词: 纳米技术  纳米光刻  纳米结构制作  纳米光刻技术  现状与进展  纳米结构器件  极紫外光刻技术  电子束光刻技术  纳米加工技术  集成电路  

2005年第03期 《世界科技研究与发展》

关键词: 纳米技术  三星电子  台积电  极紫外光刻技术  高地  芯片产品  工艺  lpp  

2018年第10期 《高科技与产业化》

关键词: 极紫外光刻技术  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所  长春光机所  大专  科技  大规模集成电路  项目验收  成套工艺  

2017年第04期 《分析仪器》

关键词: 极紫外光刻技术  科技  大规模集成电路  声音  权威  成套工艺  制造装备  专家组  

2017年第07期 《中国科技财富》

关键词: 极紫外光刻技术  研究成果  spie  技术专家  技术热点  半导体  浸没式  会议  新闻  

2006年第05期 《集成电路应用》

关键词: 极紫外光源  极紫外光刻技术  电子芯片  光刻工艺  

2006年第10期 《中国科技信息》

关键词: 极紫外光刻技术  纳米压印技术  商业运作模式  成像技术  学术报告  高折射率  

2008年第08期 《集成电路应用》

关键词: 半导体光刻技术  psm技术  离子束曝光技术  极紫外光刻技术  

2009年第06期 《中国高新技术企业》

关键词: 极紫外光刻技术  研发  美国加州大学  激光器系统  半导体工业  研究人员  激光光源  二氧化碳  

2008年第08期 《大众科技》

关键词: 台积电  试产  极紫外光刻技术  finfet  三星电子  晶体管  良品率  工艺  

2013年第04期

关键词: 光学光刻技术  极紫外光刻技术  euv  双曝光技术  大规模生产  高分辨率  集成电路  光学测量技术  

2015年第05期 《电子工业专用设备》

关键词: 计算机芯片  ibm  极紫外光刻技术  英特尔  锗硅材料  

2015年第09期 《电脑迷》

关键词: 美国ibm公司  半导体工艺  节点  跨越式  极紫外光刻技术  半导体技术  芯片性能  工业领域  

2015年第15期 《军民两用技术与产品》

关键词: 下一代光刻技术  纳米压印光刻技术  极紫外光刻技术  无掩模光刻技术  原子光刻技术  电子束光刻技术  

2015年第13期 《科技与企业》