关键词: 美国麻省理工学院  电子束光刻  纳米  精度  显示  mit  euv光刻  光刻技术  

2011年第03期 《集成电路通讯》

关键词: 纳米光电子器件  电子束光刻  电感耦合等离子体刻蚀  量子点器件  光子晶体  

2006年第01期 《物理》

关键词: 光栅  电子束光刻  近场全息  平焦场光栅  谱线宽度  

2018年第05期 《光学学报》

关键词: 工艺节点  项目团队  单元面积  硅晶体  ibm  nm  系统性能  团队领导  电子束光刻  泄流  

2005年第01期 《半导体信息》

关键词: 通用工艺  电子束光刻  掩模  等离子体蚀刻  等离子体刻蚀  lithography  极端紫外  压铸机  注射成型  溶胶一凝胶  

2005年第12期 《电子科技文摘》

关键词: 通用工艺  纳米压印  微细加工技术  刻蚀技术  轮胎花纹  天津工业大学  数控工作台  电子束光刻  激光淀积  implanted  

2005年第11期 《电子科技文摘》

关键词: 电子束光刻  liga技术  刻蚀深度  曝光剂量  半导体  

2004年第01期 《微细加工技术》

关键词: 激光器  半导体激光器  分布布拉格反射器  电子束光刻  高功率  

2019年第07期 《中国激光》

关键词: 硬x射线波带片  电子束光刻  大高宽比波带片  镂空薄膜  

2017年第11期 《光学精密工程》

关键词: 硬x射线波带片  电子束光刻  大高宽比波带片  镂空薄膜  

2017年第11期 《光学精密工程》

关键词: x射线衍射光学部件  波带片  电子束光刻  纳米加工  会聚透镜  分辨率板  同步辐射光源  

2017年第11期 《光学精密工程》

关键词: 扫描隧道显微镜  隧道效应  纳米加工  电子束光刻  

2005年第09期 《微纳电子技术》

关键词: 下一代光刻  极远紫外光刻  电子束光刻  分辨率增强  浸没法光刻  技术节点  

2004年第04期 《中国集成电路》

关键词: 无掩模光刻  电子束光刻  掩模版  

2005年第08期 《电子工业专用设备》

关键词: 电子束光刻  掩模  投影光刻  

2004年第04期 《光电工程》

关键词: 超大规模集成电路  纳米cmos器件  电子束光刻  散射  技术优势  应用前景  

2005年第06期 《半导体技术》

关键词: 大规模集成电路  半导体技术  光刻技术  电子束光刻  x射线光刻  2003年  全球范围  纳米技术  纳米时代  生产阶段  特征尺寸  持续发展  发展规划  发展路线  大批量  晶体管  极紫外  离子束  

2005年第06期 《电子世界》

关键词: 电子束光刻  邻近效应  monte  carlo模拟  抗蚀剂  分辨率  

2004年第04期 《电子显微学报》

关键词: 电子束光刻  邻近效应  

2005年第05期 《电子显微学报》

关键词: 电子束光刻  微纳加工  纳米电子器件  

2017年第05期 《电子与封装》